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1200度箱式氣氛保護燒結爐

1200度箱式氣氛保護燒結爐的詳細介紹設備名稱箱式惰性氣氛保護爐型號AFD1200-30AFD1200-40AFD1200-50AFD1200-60基本參數電源電壓AC220V,50/60HzAC380V,50/60HzAC380V,50/60HzAC380V,50/60Hz外形尺寸（寬*深*高）845*755*1050mm1000*880*1300mm1140*1053*1485mm0000*0000*0000mm設備重量210Kg450Kg650Kg000Kg1200度箱...

1700℃管式爐Φ60/80

1700℃管式爐Φ60/80的詳細介紹設備名稱真空管式爐（封閉式）型號AFD1700-60AFD1700-60IIAFD1700-80AFD1700-80II基本參數電源電壓AC220V,50/60HzAC220V,50/60HzAC220V,50/60Hz外形尺寸1200*640*1580mm1200*640*1580mm設備重量175Kg175Kg1700℃管式爐加熱系統加熱功率4Kw4Kw8Kw加熱區300mm300mm300+300mm恒溫區120mm（&pl...

1200度200管徑管式爐（標準/雙溫區/三溫區）

1200℃管式爐Φ200(標準/雙溫區/三溫區)的詳細介紹設備名稱200管徑管式爐（開啟式）型號AFD1200-200AFD1200-200IIAFD1200-200III基本參數電源電壓AC220V,50/60HzAC220V,50/60HzAC380V,50/60Hz外形尺寸（寬*深*高）1200*640*820mm1350*640*820mm1650*640*820mm設備重量115Kg135Kg160Kg管式爐加熱系統加熱功率6Kw8Kw12Kw加熱區440m...

箱式氣氛爐在行業中的應用及主要部分

箱式氣氛爐在行業中的應用“箱式氣氛爐”別名“氣氛爐、管式爐、電阻爐、井式爐、氫氣爐、鐘罩爐、鉬絲爐、升降爐等等”是種實驗設備,適用于金屬、納米、單晶硅、多晶硅、電池等的擴散焊接以及真空氣體保護下，氣氛熱處理的加熱設備鉬絲爐、箱式氣氛爐、井式氣氛爐、真空管式爐用于材料或化學實驗室，在真空或氣氛狀態下燒結各種新材料樣品。箱式氣氛爐適用于工礦企業、大專院校、科研院所及實驗室作真空或氣氛狀態下燒結各種新材料樣品用。可供化學分析、物理測定以及金屬、陶瓷的燒結和熔解、小型鋼件等加熱、焙燒...

管式爐CVD原理供氣系統

管式爐CVD原理供氣系統CVD(ChemicalVaporDeposition）原理CVD(ChemicalVaporDeposition,化學氣相沉積），指把含有構成薄膜元素的氣態反應劑或液態反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室，在襯底表面發生化學反應生成薄膜的過程。在超大規模集成電路中很多薄膜都是采用CVD方法制備。經過CVD處理后，表面處理膜密著性約提高30%，防止高強力鋼的彎曲，拉伸等成形時產生的刮痕。CVD特點淀積溫度低，薄膜成份易控，膜厚與淀積時間成正比，均勻...